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    尺寸與形狀定制 根據目標工件的尺寸和形狀,設計吸盤的結構,支持圓形、矩形、多邊形等形狀。 精準匹配不同尺寸晶圓(如300mm晶圓)或的需求。

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    半導體靜電吸盤是晶圓搬運和固定的關鍵設備,其性能穩定性直接影響到半導體製造的效率和產品良率。由於長時間使用或環境因素,靜電吸盤可能出現磨損、吸附力下降或電氣故障等問題,需透過翻新延長其使用壽命。

 

 

半導體靜電吸盤(Electrostatic Chuck, ESC)是晶圓製造設備中至關重要的核心部件,其主要功能是通過靜電力固定晶圓,以實現高精度加工。陶瓷盤作為靜電吸盤的主要組成部分,需具備優異的電絕緣性、機械穩定性和熱穩定性。因此,其生產製造過程對技術要求極高,直接影響半導體製程的穩定性和良率。

 

材料選擇

靜電吸盤陶瓷盤的核心材料主要是氧化鋁(Al₂O₃)或氮化鋁(AlN)。

  1. 氧化鋁陶瓷:具備良好的機械強度和電絕緣性,成本相對較低,適用於大部分應用場景。
  2. 氮化鋁陶瓷:具有更高的熱導率和優異的電性能,適用於對熱管理要求更高的先進製程。

此外,為了改善陶瓷盤的性能,可能會摻入適量的其他氧化物(如氧化鈦或氧化釔),以增強特定特性。

 

製造流程

  1. 原料配制與混合

    • 將選定的陶瓷粉體材料按照配方比例混合,加入適量的粘結劑、分散劑和溶劑,進行均勻攪拌。
    • 通過球磨或其他混料技術,確保材料顆粒分佈均勻,並消除團聚現象。
  2. 成型

    • 模壓成型:採用等靜壓技術將陶瓷粉末壓制成坯體,確保密度均勻。
    • 流延成型:對於薄型陶瓷盤,可使用流延工藝獲得更高的尺寸精度。
  3. 脫脂與預燒

    • 在高溫爐中對坯體進行脫脂處理,去除粘結劑和有機物。
    • 預燒可進一步提高坯體的強度,便於後續加工。
  4. 燒結

    • 將預燒後的坯體放入高溫燒結爐中進行燒結,溫度可達1600°C至1800°C。
    • 燒結過程中,坯體會緻密化,並形成陶瓷的最終結構與性能。
  5. 精密加工

    • 平面研磨與拋光:對陶瓷盤進行表面加工,以達到納米級的平整度和光潔度。
    • 電極圖案化:在陶瓷盤表面通過真空鍍膜技術製作導電電極,並進行蝕刻形成精密圖案。
  6. 質量檢測

    • 使用光學檢測儀檢查陶瓷盤的平整度和光潔度。
    • 檢測電性能,如電阻值、介電強度等,確保符合設計規範。
    • 進行熱穩定性與機械強度測試,驗證產品在極端條件下的可靠性。

 

關鍵挑戰與技術突破

  1. 高平整度與光潔度的實現
    半導體製程對靜電吸盤陶瓷盤的平整度要求通常在亞微米或納米級別,這對加工技術提出了極高的挑戰。目前,先進的拋光技術和檢測設備大大提升了產品質量。

  2. 導電電極與陶瓷結合的穩定性
    電極與陶瓷盤的結合需兼顧導電性能和機械穩定性。新型導電材料和高精度製作工藝的應用,顯著提升了產品的穩定性和壽命。

  3. 尺寸大型化與精密化
    隨著晶圓尺寸從200mm向300mm、甚至更大的方向發展,陶瓷盤需具備更高的尺寸穩定性和精度,這對材料配方和製造設備提出了更高要求。